“印鈔機(jī)”中芯國(guó)際:科創(chuàng)板上市
其實(shí),中芯國(guó)際對(duì)于國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要意義足以支持其現(xiàn)在的市值。
中芯國(guó)際在大陸芯片制造產(chǎn)業(yè)中的重要性不能僅用其營(yíng)收等指標(biāo)來(lái)衡量,其作為產(chǎn)業(yè)拓荒者更重要的是對(duì)國(guó)家發(fā)展的戰(zhàn)略意義。盡管外部有封鎖和競(jìng)爭(zhēng),但是中芯國(guó)際為大陸芯片制造產(chǎn)業(yè)積累了很多寶貴經(jīng)驗(yàn),補(bǔ)全了國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán)。
中芯國(guó)際縮小了中國(guó)晶圓制造與世界的差距,其發(fā)展與進(jìn)步極大促進(jìn)了中國(guó)晶圓制造工藝技術(shù)的提高,支持了國(guó)內(nèi)集成電路設(shè)計(jì)公司的發(fā)展,帶動(dòng)了相關(guān)上下游產(chǎn)業(yè)的協(xié)同發(fā)展。
以上游設(shè)備業(yè)為例,中芯國(guó)際倡導(dǎo)使用國(guó)內(nèi)廠商的設(shè)備,除了大家經(jīng)常聽(tīng)到的光刻機(jī)之外,還有離子蝕刻機(jī)、離子注入機(jī)、光學(xué)拋光機(jī)、快速退火設(shè)備等等。
隨著企業(yè)工藝的不斷演進(jìn),設(shè)備廠的技術(shù)能力得到了顯著提高,過(guò)去七年國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體裝備的市場(chǎng)占有率從1%提高到了15%。
此外,中芯國(guó)際還在積極推進(jìn)產(chǎn)學(xué)研合作。其與國(guó)內(nèi)集成電路領(lǐng)域的主要高校和研究機(jī)構(gòu)開(kāi)展產(chǎn)學(xué)研合作,共同發(fā)展前沿技術(shù),推動(dòng)科技成果的產(chǎn)業(yè)化,建設(shè)自主創(chuàng)新體系,提供在職訓(xùn)練崗位,培養(yǎng)面向工業(yè)的高端學(xué)術(shù)人才,促進(jìn)學(xué)界和產(chǎn)業(yè)界的學(xué)術(shù)交流。
雖然中芯國(guó)際目前取得了不錯(cuò)的成績(jī),但與其直接競(jìng)爭(zhēng)的都是國(guó)際知名企業(yè)。中興國(guó)際與它們相比面臨體量過(guò)小,技術(shù)受限等問(wèn)題,中芯國(guó)際如何克服掣肘,實(shí)現(xiàn)突破?
打破光刻機(jī)禁錮,實(shí)現(xiàn)N+1
此前,荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)禁運(yùn)中芯國(guó)際事件,又將光刻機(jī)這一重要設(shè)備推向風(fēng)口浪尖。
中芯國(guó)際與國(guó)際最先進(jìn)的芯片制造水平只有一兩代工藝的差距。但荷蘭ASML禁止向中芯國(guó)際提供EUV光刻機(jī),使得中芯國(guó)際無(wú)法獲得EUV 技術(shù),從而無(wú)法向更高制程前進(jìn)。
制程,指的是芯片內(nèi)電路與電路之間的距離。在生產(chǎn)CPU的過(guò)程中,集成電路的精細(xì)度、精度越高,生產(chǎn)工藝就越先進(jìn)。制程是微電子技術(shù)發(fā)展與進(jìn)步的重要指標(biāo),芯片制程越高,意味著芯片可以擁有更復(fù)雜的電路設(shè)計(jì),不僅芯片性能得以提升,而且功耗也能大幅降低。
目前,除了臺(tái)積電、英特爾、三星等世界頂尖廠商在積極追逐10nm、7nm、5nm甚至更先進(jìn)的制程。由于技術(shù)和資金的問(wèn)題,聯(lián)電和格芯已經(jīng)放緩了革新的腳步,這對(duì)于中國(guó)本土的晶圓廠而言,是個(gè)不錯(cuò)的發(fā)展機(jī)遇。中芯國(guó)際這些年在工藝的突破頻頻告捷,國(guó)產(chǎn)芯片崛起可期。
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